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華為AR或MR頭戴式設(shè)備專利獲授權(quán),專利申請有幾個階段?

發(fā)布時間:2022-02-08 14:13:08 來源:互聯(lián)網(wǎng) 作者:zz 瀏覽:807

  2022年2月8日,據(jù)了解,近日,華為技術(shù)有限公司獲得了于2018年3月20日申請的關(guān)于“增強(qiáng)現(xiàn)實或混合現(xiàn)實頭戴式設(shè)備”專利授權(quán),該專利授權(quán)公告號為CN111712750B。

華為AR或MR頭戴式設(shè)備專利獲授權(quán),專利申請有幾個階段?

  摘要顯示,所述頭戴式設(shè)備包括用于容納設(shè)置有顯示屏的電子設(shè)備的支架及多個反射元件,用戶可通過反射元件看見電子設(shè)備上的圖像。


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  申請專利要經(jīng)過三個階段,即專利檢索階段、專利申請所需資料的準(zhǔn)備階段、申請專利在提交專利局后進(jìn)行審查的階段?!就扑]閱讀:如何申請專利?專利申請流程及步驟是怎樣的?


  專利申請后,如果沒有要求提前公布的,一般在18個月后公布。法律規(guī)定,國務(wù)院專利行政部門收到專利申請后,經(jīng)初步審查認(rèn)為符合要求的,自申請日起滿十八個月,就可以進(jìn)行公布。


  根據(jù)《中華人民共和國專利法》第三十四條規(guī)定,國務(wù)院專利行政部門收到發(fā)明專利申請后,經(jīng)初步審查認(rèn)為符合本法要求的,自申請日起滿十八個月,即行公布。國務(wù)院專利行政部門可以根據(jù)申請人的請求早日公布其申請。


  第三十五條規(guī)定,發(fā)明專利申請自申請日起三年內(nèi),國務(wù)院專利行政部門可以根據(jù)申請人隨時提出的請求,對其申請進(jìn)行實質(zhì)審查;申請人無正當(dāng)理由逾期不請求實質(zhì)審查的,該申請即被視為撤回。


  國務(wù)院專利行政部門認(rèn)為必要的時候,可以自行對發(fā)明專利申請進(jìn)行實質(zhì)審查。


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